針對大規模集成電路、精密電子工業、科研等需要的超純水制備系統,采用全膜法處理設計,根據使用點水質的不同要求,采用“盤濾+超濾 + 反滲透(Ⅰ)+反滲透(Ⅱ)+CEDI+拋光混床” 的超純水制備工藝流程。